100%自主可控的350nm光刻机拿下批量订单！由芯上微自主研发的350nm步进投影光刻机AST6200顺利通过国内化合物半导体领域头部客户全流程工艺验证，并斩获批量重复采购订单。AST6200定位化合物半导体专用步进光刻机，稳定实现350nm分辨率，正面套刻精度80nm、背面套刻精度500nm。此次批量订单的落地，填补了第三代半导体量产线对国产中高端光刻设备的刚需缺口。在功率器件、射频前端、光电子芯片等化合物半导体领域，国产设备已具备替代进口的能力。
100%自主可控的350nm光刻机拿下批量订单！由芯上微自主研发的350nm步进投影光刻机AST6200顺利通过国内化合物半导体领域头部客户全流程工艺验证，并斩获批量重复采购订单。AST6200定位化合物半导体专用步进光刻机，稳定实现350nm分辨率，正面套刻精度80nm、背面套刻精度500nm。此次批量订单的落地，填补了第三代半导体量产线对国产中高端光刻设备的刚需缺口。在功率器件、射频前端、光电子芯片等化合物半导体领域，国产设备已具备替代进口的能力。
