[环球网科技综合报道]11月10日消息，据digitimes报道，韩国三星电子、SK海力士两家大型半导体企业正加大对ASML公司EUV光刻机的采购布局，两家企业相关投资金额均处于10至20万亿韩元区间，全力扩充晶圆制造产能。

受益于人工智能半导体产业蓬勃发展，存储芯片市场需求持续走高，提升晶圆工厂产能成为企业发展的重要抓手，EUV光刻机则是实现产能扩张的核心关键设备。

据了解，SK海力士已于今年3月明确，计划在2026至2027年间，投入11.95万亿韩元向ASML采购EUV光刻机。企业规划的龙仁Y1晶圆厂，首个无尘室预计将于2027年2月投入使用。三星电子则提出目标，2028年将HighNAEUV技术应用于DRAM芯片量产工作，旗下平泽P5工厂计划2027年年中完成相关设备导入。（纯钧）