投资者提问：

目前公司在存储芯片专用薄膜沉积与清洗设备上取得了哪些进展？

董秘回答(国林科技SZ300786)：

尊敬的投资者，您好。国林半导体公司通过自主研发技术取得了阶段性成果:半导体湿法清洗工艺用臭氧水以及其他配套功能水设备目前对接客户已经全部验证通过，已全部量产持续出货中；薄膜沉积工艺用臭氧气体发生器验证取得了重要突破，目前已小批量出货中。感谢您的关注。